应用背景
化学气相沉淀法是一种很广泛的应用，比较典型的就是宝石级合成α碳硅石，以及在钻石或立方氧化锆表面生长的一层无色透明聚晶金刚石膜，都是化学气相沉淀法的产物。这种方法的应用很广泛，又比如在硅晶片上面铺一层均匀的胶片。这个就需要对硅晶片的水平位置有较高的要求。这需要测量——反馈——再调节。
检测方案
我们假设硅晶片的放置如下图所示，我们在硅晶片座上镶嵌一定数量的电涡流探头来推硅晶片的放置水平度进行密集的测量。从而判断硅晶片的放置水平度。再通过执行机构对硅晶片的载体进行微调，以达到适合通过化学气相沉淀条件。
电涡流在化学气相沉淀上的应用示意图
SMT9700
在这个应用上我们推挤使用SMT9700, 它是一款为客户定制的OEM产品，可测非导磁体和铁磁材料，有1、2或3通道可配电涡流探头。拥有埃米级分辨率，符合CE和RoHS标准，尺寸小巧，并可配13种电涡流探头。同时材料、线性、分辨率、带宽各种性能可自行优化。